- 1986年以来の溶融非鉄金属産業向けテクニカルセラミックス | 40年にわたる卓越性 1986-2026
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XICRU™誘導炉るつぼは、電磁条件下での高周波誘導溶解用に特別に設計されています。低温でのアルミニウム合金溶解（660.3 °C）および銅、金、銀、レアメタルの1400 °Cまでの高温精錬に優れています。先進的なサイアロン（Si₃Al₃O₃N₅）および焼結炭化ケイ素セラミックスから製造され、熱損失を最小限に抑えた均一な熱分布、優れた耐熱衝撃性、そして過酷な溶融非鉄環境における卓越した耐久性を保証します。.
主な利点には、低熱膨張（3.2～3.5×10⁻⁶/℃）、ゼロ吸水率、高い化学的安定性、そして効率的なエネルギー使用と長い耐用年数のための低熱伝導率が含まれます。最大寸法は Ø1525 mm × 高さ1050 mm に達し、これは入手可能な誘導るつぼの中で最大級です。これらは誘導加熱システムとシームレスに統合され、浸漬ヒーター、ライザーチューブ、脱ガスシステムなどのSialon ULTRA™コンポーネントを補完します。
完全な技術仕様（ULTRA™ グレード 001–004）：
1986年以来、これらのるつぼは、最小限のメンテナンスと迅速な納品（通常4週間）で、最高のコストパフォーマンスを実現しています。 XICRU™ 誘導炉るつぼを見る – カスタム形状、サイズ、蓋はご要望に応じて対応可能です。化学攻撃に対する標準12ヶ月保証付き。
カスタム形状、サイズ、蓋はご要望に応じて対応可能です。迅速な見積もり – 通常24時間以内。.
XICRU™誘導炉るつぼは、電磁条件下での高周波誘導溶解用に特別に設計されています。低温でのアルミニウム合金溶解（660.3 °C）および銅、金、銀、レアメタルの1400 °Cまでの高温精錬に優れています。先進的なサイアロン（Si₃Al₃O₃N₅）および焼結炭化ケイ素セラミックスから製造され、熱損失を最小限に抑えた均一な熱分布、優れた耐熱衝撃性、そして過酷な溶融非鉄環境における卓越した耐久性を保証します。.
主な利点には、低熱膨張（3.2～3.5×10⁻⁶/℃）、ゼロ吸水率、高い化学的安定性、そして効率的なエネルギー使用と長い耐用年数のための低熱伝導率が含まれます。最大寸法は Ø1525 mm × 高さ1050 mm に達し、これは入手可能な誘導るつぼの中で最大級です。これらは誘導加熱システムとシームレスに統合され、浸漬ヒーター、ライザーチューブ、脱ガスシステムなどのSialon ULTRA™コンポーネントを補完します。
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XICRU™誘導炉るつぼは、電磁条件下での高周波誘導溶解用に特別に設計されています。低温でのアルミニウム合金溶解（660.3 °C）および銅、金、銀、レアメタルの1400 °Cまでの高温精錬に優れています。先進的なサイアロン（Si₃Al₃O₃N₅）および焼結炭化ケイ素セラミックスから製造され、熱損失を最小限に抑えた均一な熱分布、優れた耐熱衝撃性、そして過酷な溶融非鉄環境における卓越した耐久性を保証します。.
主な利点には、低熱膨張（3.2～3.5×10⁻⁶/℃）、ゼロ吸水率、高い化学的安定性、そして効率的なエネルギー使用と長い耐用年数のための低熱伝導率が含まれます。最大寸法は Ø1525 mm × 高さ1050 mm に達し、これは入手可能な誘導るつぼの中で最大級です。これらは誘導加熱システムとシームレスに統合され、浸漬ヒーター、ライザーチューブ、脱ガスシステムなどのSialon ULTRA™コンポーネントを補完します。
完全な技術仕様（ULTRA™ グレード 001–004）：
1986年以来、これらのるつぼは、最小限のメンテナンスと迅速な納品（通常4週間）で、最高のコストパフォーマンスを実現しています。 XICRU™ 誘導炉るつぼを見る – カスタム形状、サイズ、蓋はご要望に応じて対応可能です。化学攻撃に対する標準12ヶ月保証付き。
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